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1.
光刻 -
https://baike.baidu.com/item/%E7%89%B9%E7%A7%8D%E5%8A%A0%E5%B7%A5%EF%BC%9A%20%E5%85%89%E5%88%BB
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光刻加工技术，是利用照相复制与化学腐蚀相结合的技术﹐在工件表面制取精密﹑微细和复杂薄层图形的化学加工方法。
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2.
光刻加工 -
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光刻加工，在硅等基体材料上涂覆光致抗蚀剂，然后用极限分辨率极高的能量束来通过掩模对光致抗蚀剂层进行曝光。经显影后，在光致抗蚀剂层上获得与掩模图形相同的及微细的几何图形，再利用刻蚀等方法，在工件材料上制造出微型结构。
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3.
光刻 -
https://baike.baidu.com/item/%E5%85%89%E5%88%BB
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光刻，是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。
是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。
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4.
光刻技术 -
https://baike.baidu.com/item/%E5%85%89%E5%88%BB%E6%8A%80%E6%9C%AF
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光刻技术photolithography，术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。
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5.
光刻工艺技术 -
https://baike.baidu.com/item/光刻工艺技术
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光刻工艺技术，是指加工制作半导体结构及集成电路微图形结构的关键工艺技术，是微细制造领域应用较早并仍被广泛采用的一类微制造技术。
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